中科院表态突破"卡脖子"难题,产业链迎高光时刻


财联社9月17日讯,昨日盘后,国新办就中国科学院“率先行动”计划第一阶段实施进展情况举行发布会。

发布会上,中科院院长白春礼表示:面临美国对中国高科技产业的打压,我们希望在这方面能做一些工作。我们把美国“卡脖子”的清单变成我们科研任务清单进行布局,比如航空轮胎、轴承钢、光刻机,还有一些关键的核心技术、关键原材料等,我们争取将来在第二期,聚焦在国家最关注的重大的领域,集中我们全院的力量来做。

目前高精度的光刻机只有荷兰、美国、日本、德国等少数企业掌握,其中荷兰的阿斯麦公司(ASML)更是其中的龙头老大,并已经占据了高达80%的市场份额,垄断高端光刻机市场。

据悉,目前最先进的EUV光刻机精度为7纳米,售价曾高达1亿美元一台,且全球仅仅ASML能够生产。而英特尔、三星和台积电都是ASML的股东,享有光刻机的优先供货权。

与此同时,中国自主生产的光刻机精度约为90纳米级别,与世界最先进水平大约有15年的技术差距。

芯片制造是我国最大的短板,芯片制造始终绕不开光刻机,直接制约着中国高科技企业的持续健康发展。

其实这些年来,国内早就有设备厂商,以及研究机构在对光刻机进行研发。如上海微电子、中电科四十五所、中电科四十八所等。

目前我国的北斗三号芯片目前已经成功突破了22纳米的限制,它所配套的上海微电子技术也取得了重大突破,成功研制出了22nm的光刻机。

方正证券陈杭认为光刻机国产替代将迎来新的曙光,尤其是IC前道制造领域,将初步打破国外巨头完全垄断的局面,实现从0到1的突破。

建议关注以举国之力助力国产替代的光刻产业链,一是光刻机核心组件:负责整体集成的上海微电子、负责光源系统的科益虹源,负责物镜系统的国望光学,负责曝光光学系统的国科精密,负责双工作台的华卓精科,负责浸没系统的启尔机电;二是光刻配套设施:包括光刻胶,光刻气体,光掩模版,光刻机缺陷检测设备,涂胶显影设备等。

下图为光刻机产业链图谱:

财联社整理光刻机相关概念股包括万业企业、张江高科、奥普光电、晶方科技、上海新阳等。

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